52资源网Mentor Graphics Calibre是设计组织和代工厂广泛使用的最受欢迎的工具之一。 Calibre具有不同的模块，可以在磁带录制后执行各种功能。抽带后工作流程的挑战在于保持对高晶圆产量的严格控制，这将减少掩模时间和运营成本。尽管在OPC之前的阶段中来自诸如散射条和偏差之类的模块的某些工作量是内存密集型的，但从PM，OPC和MDP生成的工作量却是延迟密集型的。他们依靠存储，网络和计算基础架构的性能来支持和补充Calibre的速度和质量。
Mentor Graphics Calibre是片上硅（SoC）制造过程中最常用的工具之一。该过程处理了从Calma图形数据系统（GDSII）到掩膜流的工作流的不同部分，从而提供了高晶圆产量并降低了运营成本。芯片设计公司提供的输入文件包括GDSII或Open Artwork系统交换标准（OASIS）格式的SoC的物理详细信息。随着Calibreas应用程序的优化以减少屏蔽时间的同时，底层存储基础结构也对周转时间（TAT）发挥了重要作用。基础结构由网络文件共享存储，网络层和计算场组成。 NetApp存储主要用于将GDSII / OASIS文件和知识产权文件存储在Calibre通过网络文件系统（NFSv3）从计算场节点访问的共享文件系统中。
官方网站: http://www.mentor.com/
软件语言: English
文件大小: 4.2 GB
运行环境: Red Hat Enterprise Linux(RHEL)/CentOS 6.x-7.x 64Bit
•IXL supports RHEL 5 distributions;
•AOI supports RHEL 6.x-7.x, and SLES 11 -12;
•AOJ requires AVX2-capable hardware and supports RHEL 6.8-7.x, and SLES 11 -12.
•AOJ requires a homogeneous environment.
•AOJ will notauto-switch to avoid the different results a heterogeneous environment may create.
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